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文部科学省　先端研究施设共用イノベーション创出事业　「シリコンナノ加工と高品质真空利用技术に関する支援」　広岛大学?山口大学　合同シンポジウム

（2010年7月14日掲载）
日时 2010年 8月27日 13時00分～
会场 広岛大学　霞キャンパス　広仁会馆　?広岛県広岛市南区霞1-2-3　罢贰尝（082）257-5555?
内容

讲演；
13：05～13：55
江刺正喜（东北大学　大学院工学研究科ナノメカニクス専攻　教授）
「惭贰惭厂の概要および技术动向」

13：55～14：40
David A.Horsley（Professor,Berkeley Sensor&Actuator Center University of California,Davis）
「Current Trends in Manufacturing and Metrology of Microfabricated Sensors and Actuators」

14：55～15：40
榑松保美（キヤノンアネルバ（株）　事业统括部门事业戦略室　エキスパート）
「磁性薄膜形成プロセスと真空装置」

皆様のご参加をお待ち致しております。
※その他详细は下记「资料等」をご覧ください。
主催 広岛大学ナノデバイス?バイオ融合科学研究所、山口大学产学公连携?イノベーション推进机构
参加费 参加登録無料。（但し、懇親会ご出席の場合には、会費1,500円と なります。）
申込み?问い合わせ お申し込みは、下记「参照ページ」からお愿いします。

お问い合わせは、下记へお愿いします。
〔山口大学事务局〕
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参照ページ

资料等 2010071454